光化學(xué)氧化技術(shù)處理印染廢水

     光化學(xué)氧化技術(shù)屬于高級氧化工藝，是新興的現代水處理技術(shù)，該技術(shù)通過(guò)氧化劑（O3、H2O2等）在紫外（或可見(jiàn)）光的激發(fā)和催化劑(Fe2+、Fe3+ 、半導體等)的催化作用下，產(chǎn)生具有強氧化性的羥基自由基，羥基自由基的標準氧化電位達2.8eV，是除元素氟以外最強的氧化劑，能無(wú)選擇地將絕大多數有機物徹底氧化成CO2、H2O和其它無(wú)機物，反應速度快，耗時(shí)短，反應條件溫和（常溫、常壓），操作條件易于控制，無(wú)二次污染。印染廢水中染料的顏色來(lái)源于染料分子的共扼體系—含不飽和基團-N=N-、-N=O等的發(fā)色體，光化學(xué)氧化產(chǎn)生的羥基自由基能夠有效打破共扼體系結構，使之變成無(wú)色的有機分子，并進(jìn)一步礦化為H2O、CO2和其他無(wú)機物質(zhì)。光化學(xué)氧化工藝上的特點(diǎn)和染料的分子結構特征決定了光化學(xué)氧化技術(shù)在印染廢水處理方面具有其他工藝所無(wú)可比擬的優(yōu)勢。