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    發(fā)布日期: 2025-4-30 數據編號: 8155020 所屬類(lèi)別: 設備材料

    貨物氧化膜等離子刻蝕設備-公開(kāi)招標公告

    公告 氧化膜等離子刻蝕設備-公開(kāi)招標公告 (招標編號:0613-254022122071)
    招標項目所在地區:上海市


    一、招標條件 本氧化膜等離子刻蝕設備(招標項目編號:0613-254022122071),已由項目審批/核準/備案機關(guān)批準,項目資金來(lái)源為/,招標人為上海華虹宏力半導體制造有限公司。本項目已具備招標條件,現進(jìn)行公開(kāi)招標。


    二、項目概況和招標范圍 項目規模:- 。
    招標內容與范圍:/
    本招標項目劃分為標段1 個(gè)標段,本次招標為其中的:
    001 氧化膜等離子刻蝕設備


    三、投標人資格要求 001 氧化膜等離子刻蝕設備:

    1、投標人應提供營(yíng)業(yè)執照、資質(zhì)證明、經(jīng)營(yíng)范圍。
    2、投標人應具有100臺以上與本項目類(lèi)似的相關(guān)行業(yè)項目業(yè)績(jì)(須提供合同復印件或用戶(hù)的書(shū)面證明)。
    3、除設備原制造商以外的投標人應提供每一臺設備的貨源證明(機器序列號和銘牌照片)。
    4、具有完善的售后服務(wù)制度和良好的售后服務(wù)記錄,并能提供本地良好的支持服務(wù)。

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