公布日：2022.05.06
申請日：2021.12.31
分類(lèi)號：C02F1/52(2006.01)I;C02F103/16(2006.01)N
摘要
本發(fā)明涉及電鍍廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，且公開(kāi)了一種用于電鍍廢水的處理裝置，解決了目前市場(chǎng)上用于處理電鍍廢水的裝置在使用的時(shí)候，不能對廢水進(jìn)行攪拌，使得廢水無(wú)法與拖入的藥劑充分發(fā)生發(fā)應，以及不方便將沉淀在沉淀池內的金屬沉淀物取出來(lái)的問(wèn)題，其包括沉淀池，沉淀池內腔的頂部固定安裝有支撐架，支撐架為十字形狀，且支撐架的四端均固定連接在沉淀池內壁的頂端，在支撐架縱橫的交叉處設置為圓板狀，且在支撐架圓板處的中間位置卡死和有第三通孔，支撐架圓板處的頂部固定安裝有液壓缸，本發(fā)明，通過(guò)電機帶動(dòng)轉動(dòng)部上的攪拌葉在沉淀池內轉動(dòng)，使投入的藥劑能夠充分與電鍍廢水發(fā)生反應，而且還方便將金屬的沉淀物從沉淀池內取出來(lái)。
權利要求書(shū)
1.一種用于電鍍廢水的處理裝置，包括沉淀池(1)，其特征在于：所述沉淀池(1)內腔的頂部固定安裝有支撐架(2)，所述支撐架(2)為十字形狀，且支撐架(2)的四端均固定連接在沉淀池(1)內壁的頂端，在支撐架(2)縱橫的交叉處設置為圓板狀，且在支撐架(2)圓板處的中間位置卡死和有第三通孔(20)，所述支撐架(2)圓板處的頂部固定安裝有液壓缸(3)，且液壓缸(3)的伸縮端貫穿第三通孔(20)并延伸至沉淀池(1)的內腔中，所述沉淀池(1)的內腔中設置有固定部(12)，且在固定部(12)頂部的中間位置開(kāi)設有第四通孔(21)，所述液壓缸(3)位于沉淀池(1)內腔中的伸縮端還貫穿固定部(12)上的第四通孔(21)并延伸至固定部(12)的底部，且在液壓缸(3)伸縮端的頂端固定安裝有擠壓板(17)，所述擠壓板(17)位于固定部(12)的下方。
2.根據權利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述固定部(12)兩側的頂部和底部均固定連接有固定桿(13)，且四個(gè)固定桿(13)遠離固定部(12)的一端均固定連接在沉淀池(1)的內壁上，所述固定部(12)的側壁上開(kāi)設有環(huán)形槽(22)，且在環(huán)形槽(22)處套接有轉動(dòng)部(14)，所述轉動(dòng)部(14)能夠在固定部(12)側壁上的環(huán)形槽(22)內轉動(dòng)，且在轉動(dòng)部(14)的兩側均固定安裝有攪拌葉(15)。
3.根據權利要求2所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述轉動(dòng)部(14)側壁的頂部開(kāi)設有齒槽(23)，其中一個(gè)所述固定桿(13)靠近固定部(12)的一端上開(kāi)設有第一通孔(18)，所述支撐架(2)上開(kāi)設有第二通孔(19)，且第一通孔(18)與第二通孔(19)上下對齊，所述第一通孔(18)和第二通孔(19)的內部插接有從動(dòng)桿(4)，且從動(dòng)桿(4)的頂端貫穿第二通孔(19)并延伸至支撐架(2)的頂部，從動(dòng)桿(4)的底端貫穿第一通孔(18)并延伸至固定桿(13)的底部，且在從動(dòng)桿(4)的底端上固定安裝有齒輪(16)，所述齒輪(16)的側壁與轉動(dòng)部(14)上齒槽(23)嚙合連接。
4.根據權利要求3所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述第二通孔(19)設置為圓球狀，所述從動(dòng)桿(4)上設置有圓球，且從動(dòng)桿(4)上的圓球位于第二通孔(19)內并能夠在其內部進(jìn)行轉動(dòng)，所述從動(dòng)桿(4)的頂端固定安裝有傳動(dòng)帶(5)，所述沉淀池(1)的側壁上固定安裝有電機(6)，且傳動(dòng)帶(5)遠離從動(dòng)桿(4)的一端固定連接在電機(6)的輸出端上。
5.根據權利要求4所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述齒輪(16)底部的水平高度高于兩個(gè)所述攪拌葉(15)最高點(diǎn)的水平高度。
6.根據權利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述沉淀池(1)內腔的底部設置有坡度，且在沉淀池(1)內腔底部的中間位置固定固定連接有有沉淀部(8)，所述沉淀部(8)頂部的中間開(kāi)設有凹槽(9)，且凹槽(9)與沉淀池(1)的內腔相連通，所述沉淀部(8)的底端延伸至沉淀池(1)的底部，且在沉淀部(8)的底端上螺紋連接有封蓋(11)。
7.根據權利要求6所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述凹槽(9)底部的中間位置開(kāi)設有出料口(10)，且出料口(10)的直徑小于凹槽(9)的直徑，所述擠壓板(17)的直徑小于凹槽(9)的直徑且大于出料口(10)的直徑。
8.根據權利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述沉淀池(1)的底部均勻且固定安裝有四個(gè)支撐腿(7)。
9.根據權利要求1所述的一種用于電鍍廢水的處理裝置，其特征在于：所述擠壓板(17)的底部固定安裝有密封墊。
發(fā)明內容
針對上述情況，為克服現有技術(shù)的缺陷，本發(fā)明提供一種用于電鍍廢水的處理裝置，有效的解決了目前市場(chǎng)上用于處理電鍍廢水的裝置在使用的時(shí)候，不能對廢水進(jìn)行攪拌，使得廢水無(wú)法與拖入的藥劑充分發(fā)生發(fā)應，以及不方便將沉淀在沉淀池內的金屬沉淀物取出來(lái)的問(wèn)題。
為實(shí)現上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種用于電鍍廢水的處理裝置，包括沉淀池，所述沉淀池內腔的頂部固定安裝有支撐架，所述支撐架為十字形狀，且支撐架的四端均固定連接在沉淀池內壁的頂端，在支撐架縱橫的交叉處設置為圓板狀，且在支撐架圓板處的中間位置卡死和有第三通孔，所述支撐架圓板處的頂部固定安裝有液壓缸，且液壓缸的伸縮端貫穿第三通孔并延伸至沉淀池的內腔中，所述沉淀池的內腔中設置有固定部，且在固定部頂部的中間位置開(kāi)設有第四通孔，所述液壓缸位于沉淀池內腔中的伸縮端還貫穿固定部上的第四通孔并延伸至固定部的底部，且在液壓缸伸縮端的頂端固定安裝有擠壓板，所述擠壓板位于固定部的下方。
進(jìn)一步的，所述固定部?jì)蓚鹊捻敳亢偷撞烤潭ㄟB接有固定桿，且四個(gè)固定桿遠離固定部的一端均固定連接在沉淀池的內壁上，所述固定部的側壁上開(kāi)設有環(huán)形槽，且在環(huán)形槽處套接有轉動(dòng)部，所述轉動(dòng)部能夠在固定部側壁上的環(huán)形槽內轉動(dòng)，且在轉動(dòng)部的兩側均固定安裝有攪拌葉。
進(jìn)一步的，所述轉動(dòng)部側壁的頂部開(kāi)設有齒槽，其中一個(gè)所述固定桿靠近固定部的一端上開(kāi)設有第一通孔，所述支撐架上開(kāi)設有第二通孔，且第一通孔與第二通孔上下對齊，所述第一通孔和第二通孔的內部插接有從動(dòng)桿，且從動(dòng)桿的頂端貫穿第二通孔并延伸至支撐架的頂部，從動(dòng)桿的底端貫穿第一通孔并延伸至固定桿的底部，且在從動(dòng)桿的底端上固定安裝有齒輪，所述齒輪的側壁與轉動(dòng)部上齒槽嚙合連接。
進(jìn)一步的，所述第二通孔設置為圓球狀，所述從動(dòng)桿上設置有圓球，且從動(dòng)桿上的圓球位于第二通孔內并能夠在其內部進(jìn)行轉動(dòng)，所述從動(dòng)桿的頂端固定安裝有傳動(dòng)帶，所述沉淀池的側壁上固定安裝有電機，且傳動(dòng)帶遠離從動(dòng)桿的一端固定連接在電機的輸出端上。
進(jìn)一步的，所述齒輪底部的水平高度高于兩個(gè)所述攪拌葉最高點(diǎn)的水平高度。
進(jìn)一步的，所述沉淀池內腔的底部設置有坡度，且在沉淀池內腔底部的中間位置固定固定連接有有沉淀部，所述沉淀部頂部的中間開(kāi)設有凹槽，且凹槽與沉淀池的內腔相連通，所述沉淀部的底端延伸至沉淀池的底部，且在沉淀部的底端上螺紋連接有封蓋。
進(jìn)一步的，所述凹槽底部的中間位置開(kāi)設有出料口，且出料口的直徑小于凹槽的直徑，所述擠壓板的直徑小于凹槽的直徑且大于出料口的直徑。
進(jìn)一步的，所述沉淀池的底部均勻且固定安裝有四個(gè)支撐腿。
進(jìn)一步的，所述擠壓板的底部固定安裝有密封墊。
與現有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：
1)、在使用裝置的時(shí)候，通過(guò)運轉電機使帶動(dòng)傳動(dòng)帶轉動(dòng)，然后傳動(dòng)帶會(huì )帶動(dòng)從動(dòng)桿在第一通孔與第二通孔內轉動(dòng)，使從動(dòng)桿帶動(dòng)其底端的齒輪轉動(dòng)，再然后齒輪與轉動(dòng)部上的齒槽嚙合連接，使得轉動(dòng)部在固定部上的環(huán)形槽內轉動(dòng)，轉動(dòng)部在轉動(dòng)的時(shí)候帶動(dòng)兩個(gè)攪拌葉在沉淀池會(huì )旋轉，便可以將拖入沉淀池內的藥劑與電鍍廢水充分發(fā)生發(fā)應，這樣就能夠將電鍍廢水中的金屬雜質(zhì)發(fā)生沉淀，最后金屬的沉淀物就會(huì )順著(zhù)沉淀池內腔底部的坡面滑動(dòng)，最后匯聚在沉淀部上的凹槽與出料口內，通過(guò)攪拌葉的攪拌能夠使電鍍廢水中的金屬雜質(zhì)充分發(fā)生發(fā)應并沉淀；
2)、在對沉淀池內沉淀的金屬雜質(zhì)進(jìn)行處理的時(shí)候，通過(guò)控制液壓缸推動(dòng)擠壓板向下移動(dòng)，液壓缸的伸縮端在第三通孔和第四通孔內向下移動(dòng)，然后擠壓板便會(huì )慢慢移動(dòng)到沉淀部上的凹槽內，擠壓板移動(dòng)到凹槽內時(shí)，會(huì )將凹槽內的電鍍廢水從凹槽內擠壓出來(lái)，這樣擠壓板會(huì )抵在凹槽的底部并將凹槽底部的出料口堵住，最后擰掉出料口底部的封蓋，這時(shí)匯聚在出料口內的金屬沉淀物便會(huì )從沉淀部底部的出料口處排出來(lái)，而沉淀池內的廢水因為擠壓板的阻擋無(wú)法從出料口處流出來(lái)，這樣便可以將對金屬沉淀物從沉淀池內取出來(lái)。
（發(fā)明人：匡優(yōu)新）
