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    單晶硅生產(chǎn)廢水處理

    中國污水處理工程網(wǎng) 時(shí)間:2012-10-30 16:56:57

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    1、什么是單晶硅?

    單晶硅可以用于二極管級、整流器件級、電路級以及太陽(yáng)能電池級單晶產(chǎn)品的生產(chǎn)和深加工制造,其后續產(chǎn)品集成電路和半導體分離器件已廣泛應用于各個(gè)領(lǐng)域,在軍事電子設備中也占有重要地位。

    2、單晶硅生產(chǎn)廢水如何產(chǎn)生?

    單晶硅在生產(chǎn)過(guò)程中會(huì )產(chǎn)生大量的廢水。該廢水主要含有硅粉、碳化硅、聚乙二醇、氫氟酸、檸檬酸、洗滌劑及少量的表面活性劑,綜合廢水COD及SS含量較高、可生化性效果差等特點(diǎn)。

    3、單晶硅生產(chǎn)廢水處理方法簡(jiǎn)介

    某單晶硅廠(chǎng)由于引進(jìn)6英寸單晶硅拋光生產(chǎn)線(xiàn),該生產(chǎn)線(xiàn)投產(chǎn)后,廢水排放量將大大的增加.現有的廢水處理站的處理能力已不能滿(mǎn)中要求.加之原處理站的處理較果不穩定.因此必須進(jìn)行治理.因此在原有設施的基礎上對廢水處理站進(jìn)行改造。

    3.1 現廢水處理站接納廢水的水質(zhì)及水量

    現廢水處理站接納三個(gè)部位的廢水,經(jīng)均化調節后進(jìn)行處理.廢水的來(lái)源水質(zhì).水量見(jiàn)表

    3.2:廢水來(lái)源及水質(zhì)水量

    廢水來(lái)源

    水量 (m3/d)

    水     質(zhì)

    PH

    COD(mg/l)

    SS(mg/l)

    多晶硅

    600

    < 2

    300

    100--150

    切 . 磨 . 拋

    600--800

    6

    100--150

    200

    有機硅

    200

    < 3

    200--300

    100--150

    混合后

    1400--1600

    < 3

    200--250

    150--200

    3.3廢水的特點(diǎn)

    廢水產(chǎn)生的部門(mén)不同,其特點(diǎn)各異

    3.3.1:多晶硅廢水:是三氯硅烷還原生成多晶硅過(guò)程中產(chǎn)生的尾氣經(jīng)水淋洗產(chǎn)生的.主要反應為:

    SiHCl3+H2---Si+HCl  (產(chǎn)品反應)

    SiHCl3+H2O---SiO2+HCl (尾氣淋洗)

    廢水中主要物質(zhì)為:SiO2.HCl硅醇及脫水成聚硅氧烷和硅酸,偏硅酸等.廢呈強酸性, SiO2的粒徑極小,大部分聚成團漂浮的水面.

    3.3.2: 切.磨.拋廢水來(lái)自三個(gè)工序:(1)切片工序主要為:粘石臘,冷卻水等, 廢水中主要物質(zhì)為: 石臘,硅粉.(2)磨片工序的磨液成分為:洗液和肥皂制成浮液. 廢水中主要物質(zhì)為:表面活性劑.硅粉.(3)拋光工序的拋光液的成分:環(huán)烷烴, 廢水中主要物質(zhì)為:硅粉和烴類(lèi)有機物.三種廢水混合中灰色有乳狀體。

    3.3.3:有機硅廢水是:由氯丙烷在鉑酸作催化劑的條件下,與三氯硅烷加成反應生成氯丙基三氯硅烷然后經(jīng)粗精餾后產(chǎn)生的殘液和氯丙烯瓶中的殘液,用水沖洗產(chǎn)生的, 廢水中主要物質(zhì)為: 三氯硅烷, 氯丙烷和HCl.氯丙烷和HCl的來(lái)源是氯丙烯水解產(chǎn)生的,故廢水呈酸性,反應式為:

    CH2=CH-CH-CH2Cl+H2O----CH2=CH-CH2-OH=H2O

    三部分廢水混合后,廢水呈酸性,灰的色乳狀有降低(強酸有一定的破乳性),但有膠體存在,主要是硅酸,偏硅酸和硅醇分子間脫水聚縮而成聚硅氧烷引起的。

    3.4 處理工藝流程及出水水質(zhì)

    3,4.1:處理工藝流程

     

    3,4.2:出水水質(zhì)

    廢水經(jīng)過(guò)上述工藝流程處理的出水水質(zhì)為:

    PH=6-9  COD=100—160mg/l  SS=40—60mg/l

    BOD值在5--10 mg/l之間,有時(shí)為零, COD時(shí)常超標。

    3.5存在問(wèn)題及分析

    3.5.1:根據現廢水處理站運行情況,存在問(wèn)題

    1:石灰乳配制及投加不定,混合池混合不充分, 混合效果差。

    2:藥劑投加設施定量尾差,藥劑消耗量大。

    3:COD出水超標,污泥量大。

    4:處理成本高,處理噸水僅藥劑費用平均1元。

    3.5.2: COD超標分析

    根據出水水質(zhì)分析,COD超標.而B(niǎo)OD值很低說(shuō)明該廢水的可生化性差,造成出水COD超標的原因是廢水中存在多價(jià)態(tài)的無(wú)機物處在低價(jià)態(tài)和少量有機物所致,分析化驗COD時(shí)加入氧化劑氧化有機物同時(shí)也氧化低態(tài)的無(wú)機物,故引起起廢水中COD超標。具體參見(jiàn)http://www.sharpedgetext.com更多相關(guān)技術(shù)文檔。

    4、改擴建后廢水方案

    4.1:改擴建后廢水水質(zhì),水量及處理規模

    4.1.1新增廢水的水量,水質(zhì)

    新增廢水來(lái)源為切.磨.拋,清洗工序,其廢水水量為1000 m3/d,水質(zhì)為:

    PH=6 .COD=100--150mg/l  SS=200mg/l

    4.1.2: 改擴建后廢水水質(zhì)

    水量廢水總水量為:2000----2600 m3/d,

    水質(zhì)為:PH<4 . COD=200--250mg/l SS=200mg/l

    5、廢水處理工藝的選擇

    根據廢水呈酸性,并存在有多價(jià)態(tài)的無(wú)機物,用生鐵屑和焦炭組成微電解工藝作為混凝沉淀處理的預處理,微電解是由原電池反應原理,電極反應為氧化還原反應.能將廢水中有機物分解和能使多價(jià)態(tài)的無(wú)機物氧化成高價(jià)穩定態(tài).同時(shí)產(chǎn)生[Fe2+],經(jīng)石灰乳中和反應后生成Fe(OH)2沉淀,不僅能降低廢水的酸度,而且能破壞廢水中的膠體,并且有較強的吸附凝聚能力,還節省其他藥劑量,確保廢水達標排放或回用。

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