公布日：2023.06.13
申請日：2022.12.29
分類(lèi)號：C02F1/44(2023.01)I;B01D65/02(2006.01)I;B01D65/04(2006.01)I
摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置，包括過(guò)濾支架，所述過(guò)濾支架上設置有TMF膜管機構，所述TMF膜管機構包括第一管組、第二管組和第三管組，所述第一管組與第二管組串聯(lián)連接，所述第二管組和第三管組并聯(lián)連接，所述TMF膜管機構一側設置有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗架體，所述清洗架體安裝于所述TMF膜管機構內，所述清洗架體上設置有旋轉裝置，所述旋轉裝置包括旋轉體，所述旋轉體安裝于所述清洗架體上，通過(guò)本裝置能夠快速的將硅廢水進(jìn)行去除，提高過(guò)濾效率，處理效率達到90％‑95％以上，可將二氧化硅從幾百mg/L降至10mg/L左右。
權利要求書(shū)
1.一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置，包括過(guò)濾支架、泵體、PH儀表和液體儲罐，所述過(guò)濾支架上設置有TMF膜管機構，所述TMF膜管機構包括第一管組、第二管組和第三管組，所述第一管組與第二管組串聯(lián)連接，所述第二管組和第三管組并聯(lián)連接，所述第一管組、第二管組和第三管組依次由上向下排列安裝于所述過(guò)濾支架上，所述TMF膜管機構一側設置有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗架體，所述清洗架體安裝于所述TMF膜管機構上，所述清洗架體上設置有旋轉裝置，所述旋轉裝置包括旋轉體，所述旋轉體安裝于所述清洗架體上，所述泵體與所述TMF膜管機構連接，所述PH儀表安裝于第一管組、第二管組和第三管組后側，所述液體儲罐通過(guò)管道與第三管組連接；所述第一管組、第二管組和第三管組一側分別設置有清洗裝置，所述第一管組與第三管組串聯(lián)連接；所述第一管組包括第一過(guò)濾一管和第一過(guò)濾二管，所述第一過(guò)濾一管與所述第一過(guò)濾二管并聯(lián)連接，所述第二管組包括第二過(guò)濾一管和第二過(guò)濾二管并聯(lián)連接，所述第三管組包括第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管，所述第一過(guò)濾一管、第一過(guò)濾二管、第二過(guò)濾一管、第二過(guò)濾二管、第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管一側進(jìn)和出水口處分別設置有過(guò)濾閥門(mén)，所述清洗裝置安裝于靠近出水口一側；所述清洗架體固定安裝于所述第一管組右側上，所述清洗架體上設置有第一清洗盤(pán)和第二清洗盤(pán)，所述第一清洗盤(pán)與所述第一過(guò)濾一管對應設置，所述第二清洗盤(pán)與所述第一過(guò)濾二管對應設置，所述第一清洗盤(pán)和第二清理盤(pán)上分別設置有清洗磨柱，所述清洗磨柱的數量與所述第一過(guò)濾一管和第一過(guò)濾二管內的孔數相同；所述清洗磨柱與所述清洗盤(pán)活動(dòng)連接，所述清洗磨柱包括前清機構和驅動(dòng)盤(pán)，所述前清機構一側設置驅動(dòng)盤(pán)，所述驅動(dòng)盤(pán)固定連接于清洗架體上；所述前清機構包括前清盤(pán)，所述前清盤(pán)上設置多層清除架，多層所述清除架架設于所述前清盤(pán)周圈處；多層所述清除架分為第一層清除架、第二層清除架和第三層清除架，所述第一層清除架設置于所述前清盤(pán)邊緣周圈處，所述第二層清除架設置于所述第一層清除架內側，所述第三層清除架設置于所述第二層清除架內側；所述第一層清除架包括多個(gè)清除刀和圓形座，多個(gè)所述清除刀均勻安裝于所述圓形座上，所述第二層清除架包括多個(gè)清除鉸刀和鉸刀座，所述鉸刀座與圓形座轉動(dòng)連接，所述清除鉸刀安裝于所述鉸刀座上，第三層清除架上設置有清吹座，所述清吹座上設置有多個(gè)吹孔，所述吹孔一側連接有空氣管。
2.根據權利要求1所述的一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置，其特征在于，所述旋轉體包括旋轉架，所述旋轉架與清洗架體的驅動(dòng)盤(pán)連接，所述旋轉架上設置有動(dòng)力主管和多個(gè)動(dòng)力噴管，動(dòng)力主管穿設于所述旋轉架上，多個(gè)所述動(dòng)力噴管連接所述動(dòng)力主管，所述動(dòng)力噴管設置于所述旋轉架周圈處，所述動(dòng)力噴管與旋轉架成傾斜角度設置。
3.一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置的使用方法，其特征在于，錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置為權利要求1到2任一權利要求所述的錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置，包括以下步驟：S1：將廢水通過(guò)泵體將廢水引入過(guò)濾支架上的TMF膜管機構進(jìn)行過(guò)濾，在過(guò)濾過(guò)程中能夠通過(guò)第一管組、第二管組和第三管組進(jìn)行多級過(guò)濾，三組管組均設有所述第一過(guò)濾一管、第一過(guò)濾二管、第二過(guò)濾一管、第二過(guò)濾二管、第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管，在運行時(shí)，能夠通過(guò)過(guò)濾閥門(mén)的控制，進(jìn)行不同路徑的過(guò)濾，保證過(guò)濾的效果，同時(shí)所述第二管組和第三管組并聯(lián)連接，其中一組能夠進(jìn)行備用過(guò)濾，保證過(guò)濾效率的同時(shí)還能不間斷的進(jìn)行過(guò)濾；S2：在進(jìn)行過(guò)濾的同時(shí)，通過(guò)PH儀表判斷每組管組的情況，進(jìn)行清理，在清理過(guò)程中通過(guò)在第一管組、第二管組和第三管組分別設置的結構一樣的清洗裝置進(jìn)行清洗，在進(jìn)行第一管組清洗時(shí)，通過(guò)清洗架體上設置的第一清洗盤(pán)和第二清洗盤(pán)進(jìn)行對應清洗，通過(guò)清洗磨柱在旋轉體多個(gè)動(dòng)力噴管?chē)娚涞膸?dòng)下旋轉，向前行進(jìn)；S3：在此過(guò)程中前清機構帶動(dòng)前清盤(pán)進(jìn)行轉動(dòng)，多層清除架上的第一層清除架、第二層清除架和第三層清除架同步進(jìn)行清理積存的硅類(lèi)固體，由于長(cháng)時(shí)間高壓，造成粘結，通過(guò)第一層清除架的清除刀進(jìn)行旋轉切割，同時(shí)在切割后掉下的大塊通過(guò)第二層清除架上的清除鉸刀進(jìn)行攪碎，在通過(guò)第三層清吹座進(jìn)行鼓吹，將固體雜質(zhì)進(jìn)行清除，在此清除過(guò)程中，整個(gè)除硅廢水快速過(guò)濾不停止運行，保證除硅廢水的快速過(guò)濾。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置及其使用方法，以解決上述背景技術(shù)中提出的問(wèn)題，能夠根據實(shí)際情況進(jìn)行維護同時(shí)能夠保證硅類(lèi)廢水不間斷進(jìn)行過(guò)濾，提高廢水的過(guò)濾效率及時(shí)間利用率。
為實(shí)現上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：
一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置，包括過(guò)濾支架、泵體、PH儀表和液體儲罐，所述過(guò)濾支架上設置有TMF膜管機構，所述TMF膜管機構包括第一管組、第二管組和第三管組，所述第一管組與第二管組串聯(lián)連接，所述第二管組和第三管組并聯(lián)連接，所述第一管組、第二管組和第三管組依次由上向下排列安裝于所述過(guò)濾支架上，所述TMF膜管機構一側設置有清洗裝置，所述清洗裝置包括清洗架體，所述清洗架體安裝于所述TMF膜管機構上，所述清洗架體上設置有旋轉裝置，所述旋轉裝置包括旋轉體，所述旋轉體安裝于所述清洗架體上，所述泵體與所述TMF膜管機構連接，所述PH儀表安裝于第一管組、第二管組和第三管組后側，所述液體儲罐通過(guò)管道與第三管組連接。
所述第一管組、第二管組和第三管組一側分別設置有清洗裝置，所述第一管組與第三管組串聯(lián)連接。
所述第一管組包括第一過(guò)濾一管和第一過(guò)濾二管，所述第一過(guò)濾一管與所述第一過(guò)濾二管并聯(lián)連接，所述第二管組包括第二過(guò)濾一管和第二過(guò)濾二管并聯(lián)連接，所述第三管組包括第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管，所述第一過(guò)濾一管、第一過(guò)濾二管、第二過(guò)濾一管、第二過(guò)濾二管、第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管一側進(jìn)和出水口處分別設置有過(guò)濾閥門(mén)，所述清洗裝置安裝于靠近出水口一側。
所述清洗架體固定安裝于所述第一管組右側上，所述清洗架體上設置有第一清洗盤(pán)和第二清洗盤(pán)，所述第一清洗盤(pán)與所述第一過(guò)濾一管對應設置，所述第二清洗盤(pán)與所述第一過(guò)濾二管對應設置，所述第一清洗盤(pán)和第二清理盤(pán)上分別設置有清洗磨柱，所述清洗磨柱的數量與所述第一過(guò)濾一管和第一過(guò)濾二管內的孔數相同。
所述清洗磨柱與所述清洗盤(pán)活動(dòng)連接，所述清洗磨柱包括前清機構和驅動(dòng)盤(pán)，所述前清機構一側設置驅動(dòng)盤(pán)，所述驅動(dòng)盤(pán)固定連接于清洗架體上。
所述前清機構包括前清盤(pán)，所述前清盤(pán)上設置多層清除架，多層所述清除架架設于所述前清盤(pán)周圈處。
多層所述清除架分為第一層清除架、第二層清除架和第三層清除架，所述第一層清除架設置于所述前清盤(pán)邊緣周圈處，所述第二層清除架設置于所述第一層清除架內側，所述第三層清除架設置于所述第二層清除架內側。
所述第一層清除架包括多個(gè)清除刀和圓形座，多個(gè)所述清除刀均勻安裝于所述圓形座上，所述第二層清除架包括多個(gè)清除鉸刀和鉸刀座，所述鉸刀座與圓形座轉動(dòng)連接，所述清除鉸刀安裝于所述鉸刀座上，第三層清除架上設置有清吹座，所述清吹座上設置有多個(gè)吹孔，所述吹孔一側連接有空氣管。
所述旋轉體包括旋轉架，所述旋轉架與清洗架體的驅動(dòng)盤(pán)連接，所述旋轉架上設置有動(dòng)力主管和多個(gè)動(dòng)力噴管，動(dòng)力主管穿設于所述旋轉架上，多個(gè)所述動(dòng)力噴管連接所述動(dòng)力主管，所述動(dòng)力噴管設置于所述旋轉架周圈處，所述動(dòng)力噴管與旋轉架成傾斜角度設置。
一種錯流TMF膜除硅廢水快速過(guò)濾裝置的使用方法，包括以下步驟：
S1：將廢水通過(guò)泵體將廢水引入過(guò)濾支架上的TMF膜管機構進(jìn)行過(guò)濾，在過(guò)濾過(guò)程中能夠通過(guò)第一管組、第二管組和第三管組進(jìn)行多級過(guò)濾，三組管組均設有所述第一過(guò)濾一管、第一過(guò)濾二管、第二過(guò)濾一管、第二過(guò)濾二管、第三過(guò)濾一管和第三過(guò)濾二管，在運行時(shí)，能夠通過(guò)過(guò)濾閥門(mén)的控制，進(jìn)行不同路徑的過(guò)濾，保證過(guò)濾的效果，同時(shí)所述第二管組和第三管組并聯(lián)連接，其中一組能夠進(jìn)行備用過(guò)濾，保證過(guò)濾效率的同時(shí)還能不間斷的進(jìn)行過(guò)濾；
S2：在進(jìn)行過(guò)濾的同時(shí)，通過(guò)PH儀表判斷每組管組的情況，進(jìn)行清理，在清理過(guò)程中通過(guò)在第一管組、第二管組和第三管組分別設置的結構一樣的清洗裝置進(jìn)行清洗，在進(jìn)行第一管組清洗時(shí)，通過(guò)清洗架體上設置的第一清洗盤(pán)和第二清洗盤(pán)進(jìn)行對應清洗，通過(guò)清洗磨柱在旋轉體多個(gè)動(dòng)力噴管?chē)娚涞膸?dòng)下旋轉，向前行進(jìn)；
S3：在此過(guò)程中前清機構帶動(dòng)前清盤(pán)進(jìn)行轉動(dòng)，多層清除架上的第一層清除架、第二層清除架和第三層清除架同步進(jìn)行清理積存的硅類(lèi)固體，由于長(cháng)時(shí)間高壓，造成粘結，通過(guò)第一層清除架的清除刀進(jìn)行旋轉切割，同時(shí)在切割后掉下的大塊通過(guò)第二層清除架上的清除鉸刀進(jìn)行攪碎，在通過(guò)第三層清吹座進(jìn)行鼓吹，將固體雜質(zhì)進(jìn)行清除，再次清除過(guò)程中，整個(gè)除硅廢水快速過(guò)濾不停止運行，保證除硅廢水的快速過(guò)濾。
與現有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是：
1.通過(guò)第一管組和第二管組、第三管組的串并聯(lián)匹配能夠完成對不同管組的不間斷維修維護，保證廢水的不斷過(guò)濾，旋轉裝置能夠帶動(dòng)清洗架體進(jìn)行旋轉前行，保證了清洗的有效性，根據PH儀表的判斷進(jìn)行及時(shí)的替代性維護。
2.第一管組、第二管組和第三管組內部結構一致，通過(guò)清洗裝置能夠分別設置在三個(gè)管組內，能夠進(jìn)行維護時(shí)分別操作，便于使用，有效降低拆卸率。
3.能夠根據實(shí)際情況進(jìn)行維護同時(shí)能夠保證硅類(lèi)廢水不間斷進(jìn)行過(guò)濾，提高廢水的過(guò)濾效率及時(shí)間利用率。
4.通過(guò)三層清除架的設計能夠將整個(gè)管面進(jìn)行清理，通過(guò)第一層清除架將黏粘在管壁上的堵塞物進(jìn)行處理，第二層清除架通過(guò)鉸刀將大塊攪碎，便于進(jìn)行清理，第三層清除架能夠通過(guò)鼓吹將廢物前移，保證清理的快速性。
（發(fā)明人：常英）
